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噴淋式兆聲清洗

       處于兆聲(MHz)頻域的高頻超聲波清洗被視為半導體晶圓清洗的關鍵方法,頻率在900kHz-3000kHz的超高頻超聲波清洗,可達到200納米以下的超高清洗精度。同時高頻超聲波的空化效用大幅減弱,從而減少了對晶圓表面的損傷風險。兆聲清洗與28kHz,48kHz,68kHz等傳統的超聲波清洗相比,兆聲清洗適用于更高潔凈度的清洗行業。其被廣泛應用于半導體硅片、高清鏡頭、顯示屏等清洗行業。

       兆聲清洗通常分為噴淋式兆聲清洗和槽式兆聲清洗兩種。噴淋式兆聲清洗是通過高頻超聲波換能器將高頻超聲波通過水流傳送出去,被清洗的物體接觸帶有高頻超聲波的水流而達到清潔處理的目的。噴淋式兆聲清洗相對于傳統的槽式清洗,具有更高的清洗效率,并避免了清洗水殘留物的二次污染問題。槽式兆聲清洗類似傳統的超聲波清洗,高頻兆聲清洗振子處于清洗槽的底部,在清洗池中形成高頻超聲波聲場,槽式兆聲清洗的優點是可多片晶圓同時清洗,更適合用于批量清洗。


特性

噴淋式兆聲清洗噴頭

超聲波頻率:420kHz,900kHz,1MHz,2MHz,3MHz

用于半導體硅片高精度清洗,清洗精度200nm以下。

 

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